（一）核心设备购买支持

对集成电路设计企业购买核心设备（实际交易价格20万元以上），按照购置额最高20%给予补贴，每家企业每年最高补贴100万元。

（二）EDA/IP购买支持

支持集成电路企业购买IP（来源于IP提供商、EDA供应商或者代工厂IP模块）、EDA工具开展芯片研发，对上一年度购买IP、EDA设计工具的企业，按照支付费用最高60%给予补贴，每家企业每年分别给予购买IP、EDA设计工具补贴最高200万元。

（三）流片服务支持

对集成电路企业首次工程流片进行支持，按照上一年度首次工程流片费用（含掩模版制作、流片等）最高10%给予补贴，大于28nm（含）的工艺节点，每家企业每年最高补贴150万元， 7nm（不含）到28nm（不含）节点，每家企业每年最高补贴300万元，小于7nm（含）节点，每家企业每年最高补贴500万元；对使用多项目晶圆（MPW）流片进行研发的企业，按照上一年度MPW流片费用最高10%给予补贴，大于28nm（含）的工艺节点，每家企业每年最高补贴100万元，7nm（不含）到28nm（不含）节点，每家企业每年最高补贴200万元，小于7nm（含）以下节点，每家企业每年最高补贴300万元。

（四）工程样片测试验证支持

对开展工程样片的功能、性能、可靠性、兼容性、失效分析等方面的测试验证及相关认证的集成电路设计企业，按照实际发生费用最高30%给予资助，每家企业每年最高资助100万元。

（一）基本条件

1.申报主体为在南山区依法经营且具有独立法人资格的企业

2.申报主体有不少于20位本科及以上学历或10位硕士研究生及以上学历的团队，且以上成员需由申报主体在南山区连续缴纳截至申报月满六个月的社保。

3.申报主体购买核心设备，购买IP、EDA工具，流片，开展工程样片测试验证及相关认证等研发活动需在上一年度发生支付行为。

（二）专项条件

1.核心设备购买支持

申报主体上一年度购买硬件仿真器、集成电路自动测试机（ATE）、协议分析仪、逻辑分析仪或网络分析仪五类核心设备并用于芯片研发，且实际交易价格20万元（含20万元）以上。

2.EDA/IP购买支持

（1）申报主体购买IP、EDA工具开展芯片研发，且IP来源于IP提供商或者代工厂IP模块、EDA工具来源于EDA供应商；

（2）申报主体应为EDA/IP授权协议中的知识产权最终被授予方，且不再转售予第三方；

（3）采购方与被采购方已签订转让或授权合同并产生支付行为。

3.流片服务支持

（1）申报主体上一年度进行首次工程流片或使用多项目晶圆（MPW）流片进行研发；

（2）对首次工程流片，1家企业仅支持1个项目；申报主体选择首次工程流片和多项目晶圆（MPW）流片其中一项进行申报；

4.工程样片测试验证支持

申报主体上一年度就工程样片的功能、性能、可靠性、兼容性、失效分析等方面进行测试验证及相关认证，并实际发生了相关费用。